agc濺射靶材的成膜技巧及用途示例分析

發(fā)布日期：2023-12-11      瀏覽次數(shù)：368

agc濺射靶材的成膜技巧及用途示例分析

1.應(yīng)用及應(yīng)用實(shí)例

• 顯示相關(guān)光學(xué)薄膜

• 觸摸屏用折射率匹配膜

• 減反射膜

• 堿性保護(hù)膜

• 數(shù)碼相機(jī)用ND濾鏡
  等

光學(xué)薄膜的功能

1) 增透膜

當(dāng)薄膜的折射率為n1、膜厚為d時(shí)，當(dāng)薄膜的光學(xué)距離為n1?d=λ/4（光的波長(zhǎng)的1/4倍）時(shí)，反射率變得最小，因?yàn)楣獾母缮嫘?yīng)。馬蘇。此外，可以通過(guò)在最佳光學(xué)設(shè)計(jì)下層壓高折射率和低折射率薄膜來(lái)形成減反射膜。


2) 薄膜太陽(yáng)能電池用透明導(dǎo)電膜（薄膜Si型、CIGS型）

3) 建材用Low-E玻璃用介電膜（金屬與氧化物的層疊膜）

• [太陽(yáng)能電池（CIGS系統(tǒng)）]
  

  AZO薄膜的作用是傳輸光以利用太陽(yáng)能發(fā)電，并讓所產(chǎn)生的電力像電線一樣流動(dòng)。

• [Low-E玻璃]
  

  金屬和氧化物薄膜層疊起來(lái)可以阻擋太陽(yáng)光的紅外線和紫外線。ST薄膜起到保護(hù)這些薄膜免受酸雨和劃痕的作用。

2. 材料設(shè)計(jì)

將薄膜所需的功能（導(dǎo)電性、透過(guò)率、反射率、吸收性、耐堿性等）融入到目標(biāo)組合物中，提供各種組合物的目標(biāo)產(chǎn)品陣容。
我們還接受有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)陣容以外的作品的個(gè)人咨詢。

3. 光學(xué)設(shè)計(jì)

我們的光學(xué)薄膜目標(biāo)范圍廣泛，從低折射率薄膜（n=1.46）到中折射率薄膜（n=1.7至2.0）和高折射率薄膜（n=2.2至2.4）。從這些產(chǎn)品陣容中，我們選擇滿足客戶需求的目標(biāo)，并利用光學(xué)模擬技術(shù)提出光學(xué)多層膜設(shè)計(jì)。

成膜技巧

1. 薄膜沉積方法的分類



[濺射的特點(diǎn)]

1. 能夠在大面積基材上成膜

2. 能夠形成與基材附著力強(qiáng)的薄膜

3. 即使是高熔點(diǎn)物質(zhì)也可以成膜

4. 膜厚分布均勻

5. 可實(shí)現(xiàn)高精度薄膜質(zhì)量和厚度控制

2. 什么是濺射？

通過(guò)將惰性氣體（主要是氬氣）引入真空室并在基板和濺射靶材之間施加高直流或交流電壓，將氬氣等氣體轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子體。此時(shí)產(chǎn)生的離子被電場(chǎng)加速并與靶材碰撞，導(dǎo)致靶材成分飛出并附著在相對(duì)的基板表面上。這是利用這一原理在基板上形成納米到微米級(jí)薄膜的方法。

3. 濺射薄膜的特點(diǎn)

進(jìn)行濺射的等離子體中的陰極壓降通常高達(dá)約400V，因此從靶材發(fā)射的濺射原子具有相當(dāng)于約10eV的大能量。（這比氣相沉積產(chǎn)生的約0.2 eV的原子能大得多）。這些高能原子沉積在基材上形成薄膜，從而形成致密的薄膜，對(duì)基材具有很強(qiáng)的附著力。

隨著磁控濺射技術(shù)的建立，濺射方法的沉積速度顯著提高，大型在線鍍膜機(jī)的發(fā)展使生產(chǎn)率顯著提高。在此背景下，濺射技術(shù)未來(lái)有望繼續(xù)滿足各種新的需求。